IM体育IM体育随着中美冲突加深，芯片卡脖子问题凸显，光刻机作为半导体产业中最重要的部分也逐渐为人所熟知。
光刻机是一种投影曝光系统：光刻机由光源、照明系统、物镜、工件台等部件组装而成。
在芯片制作中，光刻机会投射光束，穿过印有图案的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽，再进行沉积、蚀刻等工艺形成线路。
GCA发明了第一个商业化应用于半导体制造的步进和重复掩膜设备（第一台光刻机）此后，Kapser instrument和perkinElmer公司先后推出了对准，投影光刻技术。
尼康发布第一台商用步进式光刻机NSR-1010G。1984年尼康与GCA各占据30%市场份额，同年ASML刚刚成立。
ASML发布TWINSCAN双工件光刻机平台，生产效率提升35%以上。2003年，ASML与台积电合作推出浸没式光刻机，摩尔定律实现了一次。
从1961年开始，第一台接触式光刻机由美国GCA推出，历经60年的发展，ASML后来者居上，已经成为当前光刻机行业的绝对龙头
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